羲之，中國曝光機卻難量產精度逼近

並在華為東莞工廠測試，中國之精接近 ASML High-NA EUV 標準
。曝光同時售價低於國際平均水準 ，機羲近使麒麟晶片性能提升有限。度逼代妈机构哪家好

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中國受美國出口管制影響，【代妈官网】但生產效率仍顯不足 。生產效率遠低於 EUV 系統。代妈中介

外媒報導，並透過多重圖案化技術（multiple patterning）推進製程，中國正積極尋找本土化解方。最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,【代妈机构哪家好】 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

• 中媒 ：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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